Używamy plików cookies, by ułatwić korzystanie z naszych serwisów.
Jeśli nie chcesz, by pliki cookies były zapisywane na Twoim dysku zmień ustawienia swojej przeglądarki.

Szukaj w:
[x]
Prawo
[x]
Ekonomia i biznes
[x]
Informacje i opinie
ZAAWANSOWANE

Technika

22 października 2011 | Nauka | Krzysztof Kowalski

Unikalne urządzenie do pokrywania powierzchni materiałów jonami opracowali naukowcy z Instytutu Fizyki Plazmy i Laserowej Mikrosyntezy w Warszawie. Polacy zbudowali źródło laserowe z unikalnym układem przyspieszania jonów do wybranej energii, dzięki któremu materiały można pokrywać jonami. Wynalazek umożliwi produkcję półprzewodników nowej generacji, eliminuje przy tym zanieczyszczenia powstające podczas tego procesu.

Wydanie: 9063

Wydanie: 9063

Spis treści
Zamów abonament